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首页 > 供应产品 > VTC-2RF射频等离子磁控溅射镀膜仪
VTC-2RF射频等离子磁控溅射镀膜仪
产品: 浏览次数:0VTC-2RF射频等离子磁控溅射镀膜仪 
单价: 面议
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发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2016-04-27
 
详细信息
 射频等离子磁控溅射镀膜仪是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
使用注意事项:这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗,可有效减少真空腔体中的氧含量
请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
更多信息访问:http://www.kjmti.com.cn/SonList-1290259.html               
http://www.chem17.com/st152911/erlist_1290259.html
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