使用注意事项:这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗,可有效减少真空腔体中的氧含量
请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
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http://www.chem17.com/st152911/erlist_1290259.html
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